一种低成本硅片清洗液配方
随着社会的发展,能源危机日益严重的今天,开发利用新能源已经越来越受到人们的关注,太阳能由于其无污染、可再生、无地域性等优点,越来越受到人们的青睐,太阳能产业的发展越来越快。而伴随着太阳能光伏产业的成熟,硅片的使用也越来越多。清洗最为硅片的生产工序之一,其清洗的干净与否对硅片的使用性能有着很大的影响。清洗的主要目的是为了清洗掉切割过程中产生的沙粒,残留的切削磨料、金属离子及指纹等,使硅片表面达到无腐蚀、无氧化、无残留等技术指标。现有市场上采用的硅片清洗液存在清洗效果差的问题,由此,急需解决。
华炬新产品研究所技术咨询委员会科研人员现推荐一项一种低成本硅片清洗液配方,该技术的有益效果为,所述一种硅片清洗液配方简单易操作,具有去污力强、清洗效果好、成本低的特点,现将该一种低成本硅片清洗液配方及技术方案及实施例介绍如下供研究交流参考:(811511 231744)
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